慕德微納與微蕓科技戰略簽約|共推AR核心刻蝕設備量產，首臺樣機已穩定運行！
來源:
|
作者:微蕓科技
|
發布時間: 2025-12-31
|
210 次瀏覽
|
分享到:
2025年12月30日下午，慕德微納與微蕓科技舉行戰略合作簽約儀式，雙方將攜手深耕傾斜光柵刻蝕領域，聯合開發高性能反應離子束刻蝕設備，推動 AR 刻蝕光波導技術產業化升級。
2025年12月30日下午，慕德微納與微蕓科技舉行戰略合作簽約儀式，雙方將攜手深耕傾斜光柵刻蝕領域，聯合開發高性能反應離子束刻蝕設備，推動 AR 刻蝕光波導技術產業化升級。
簽約前，雙方合作研發的第一臺樣機已在慕德微納產線實現穩定運行，其8寸刻蝕均勻性指標達到2%的行業先進水平，為后續量產推廣奠定了堅實基礎。隨著AR產品的加速滲透，刻蝕光波導作為AR設備的核心光學組件，其技術成熟度與量產能力直接決定行業發展進程；傾斜光柵刻蝕作為AR衍射光波導制造的關鍵結構，具備高光效及低漏光的光學效果優勢，但長期面臨刻蝕精度、量產能力及成本等瓶頸，高性能設備研發成制約 AR 產業突破的關鍵因素。此次雙方達成戰略合作，正是瞄準這一行業痛點展開精準攻關。依托優勢互補—— 慕德微納深耕微納光學器件領域，擁有成熟產業化經驗；微蕓科技專注半導體設備研發制造，具備關鍵技術突破能力 —— 聯合開發的反應離子束刻蝕設備專為傾斜光柵刻蝕場景定制，兼具高精度、高穩定性及大規模量產優勢，未來在TiO2及SiC傾斜光柵刻蝕量產方面降本潛力巨大。目前落地的首臺樣機經過多輪測試驗證，不僅實現了24小時連續穩定運行，更在核心性能指標上取得突破——8寸刻蝕均勻性達到2%以內。這一數據遠超工業級刻蝕設備≤3%的常規要求，意味著設備能夠精準控制大面積晶圓的刻蝕一致性，為AR刻蝕光波導的高質量量產提供了核心裝備支撐。在8寸設備的基礎上，雙方將在2026年推出更具量產優勢的12寸反應離子束刻蝕（RIBE）設備。未來，雙方將進一步打通關鍵技術鏈路，加速設備量產落地，推動相關領域國產化替代，降低制造成本，加速AI+AR時代的到來！
